近日,國家發展改革委等五部門發布《關于加快發展節水產業的指導意見》,設定目標至2027年,節水產業規模達到萬億,培育形成一批“專精特新”小巨人企業。到2035年,培育一批百億級龍頭企業,節水技術工藝、產品裝備制造和管理服務達到世界先進水平。這一政策的出臺,無疑為半導體等高耗水行業指明了節水減排的新方向。

半導體節水潛力巨大,廢水回收利用是有效途徑

半導體產業在制造過程中,幾乎每一步工藝都需要使用超純水來清洗晶圓,對水資源的消耗量頗為驚人。根據相關數據,一個每月生產4萬片200納米晶圓的工廠,其日用水量可以達到8000至10000噸,其中高達70%的水資源用于制備超純水。而當工藝升級至16納米、7納米時,同樣月產能為4萬片的12英寸晶圓廠,其每日用水量將增至大約20000噸。換言之,晶圓制造過程中,芯片的復雜度與水資源的消耗量成正比。隨著芯片技術的先進性提升,工藝環節增多,所需的水資源也隨之增加。

面對這一現實,半導體企業的水供應安全及成本控制成為影響其競爭力和可持續發展的關鍵因素。在此背景下,提升廢水回收利用水平,實現節水減廢,成為半導體企業降本增效、保障水安全的重要途徑。

然而,半導體廢水處理和回收并非易事。半導體生產過程中產生的廢水含有多種復雜的污染物,包括重金屬離子、有機溶劑、酸堿物質及氨氮等特殊污染物,處理過程中需要精確控制多種工藝參數,確保去除效率達到極高的標準。同時,回收再利用的水必須滿足半導體行業對水質的高純度要求,這對凈化技術和設備提出了極高的挑戰。

90%回收率:高頻科技助力半導體企業降本增效與供水安全

正是在這樣的背景下,高頻科技憑借其在電子級廢水處理及回用水技術領域的深厚積累,脫穎而出成為半導體節水領域的重要力量。公司研發的電子級廢水處理及回收水技術,實現了高達90%的水資源回收率,為半導體企業提供了強有力的節水支持。

高頻科技的廢水收集與處理系統,通過多級化學混凝沉淀、氨氮吹脫、生物處理等先進工藝,精準應對超過15種復雜多變的芯片廢水,實現了污染物的深度凈化與高效去除。同時,公司的回用水系統則通過科學設計,實現了對制程機臺產生的多種廢水進行合理分流與高效回用,顯著降低了對新水資源的依賴,為企業節省了寶貴的水資源成本。

半導體產業作為電子工業的基石,其發展離不開水資源的穩定供應與高效利用。高頻科技作為國家級專精特新“小巨人”企業,不僅擁有ppt級別超純水制備能力,還通過先進的回用水處理技術,提高了水資源的循環利用率,為半導體企業的可持續發展提供了堅強后盾。隨著《指導意見》的深入實施及節水技術領先企業的不斷涌現,半導體行業的節水之路將越走越寬廣。未來,半導體企業將在節水減排、綠色發展的道路上攜手并進,共同開創節水新篇章,為經濟社會的可持續發展貢獻力量。

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